欧洲杯体育High NA EUV 光刻图案化本领仍不算练习-开云 (集团) 官方网站 Kaiyun 登录入口

发布日期:2026-08-12 08:34    点击次数:57

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IT之家 8 月 11 日音问欧洲杯体育,把柄韩媒 ZDNET Korea 当地时刻本日的现场采访报谈,来自三星电子半导体辩论院晶圆代工工艺斥地团队的 박창민 (Park Chang Min) 默示,该企业盘算推算在 1nm 级工艺制程节点竣事 High NA EUV 建立的生意化诓骗。

박창민在首尔举行的 NGL 2026 学术会议上默示,关于 2nm 的 SF2 和 1.4nm 的 SF1.4 两个近期节点来说,High NA EUV 光刻图案化本领仍不算练习。而更高的图案化辨别率将在 1nm 级成为刚需,因此三星晶圆代工正以此为观念与和解伙伴集合研发。

筹商到三星晶圆代工此前将 2029 年设定为 SF1.4 的量产时点并盘算推算在 2030 年推出纠正型 SF1.4+,其 1nm 节点最快也要到 2030 年才会推出。

박창민 也提到:“在 1.4nm 及 1nm 工艺阶段欧洲杯体育,基于 0.33 NA (Low NA) EUV 的光刻多重曝光本领将成为主流。我觉得尔后的新一代工艺将以 High NA 光刻本领为主。”